345 Relief Cream Mask

Description :

Le 345 Relief Cream Mask Dr.Althea est un masque tissu spécialisé conçu pour une récupération rapide de la peau et un soulagement des imperfections. Construit comme une version concentrée de la crème culte 345 Relief Cream de la marque, ce masque utilise une stratégie de formulation unique “3-4-5” : 3 ingrédients anti-imperfections, 4 ingrédients nourrissants et 5 composants apaisants.

Il utilise 30 % d’eau de feuilles d'arbre à thé et trois différents extraits dérivés de Centella pour réduire significativement les rougeurs et l’inflammation. L’essence est délivrée via une feuille vegan en cellulose à haute adhérence, qui assure une absorption profonde des actifs dans la peau sans laisser de résidu lourd. Il est particulièrement efficace pour le soin post-acné, aidant à estomper les marques et à réparer la barrière cutanée.

Recommandé pour : Peaux sèches, sensibles, et tous types de peaux (surtout peaux acnéiques ou irritées).

Conseils d'utilisation :

• Nettoie ton visage et prépare ta peau avec un tonique.
  
• Retire le masque tissu du sachet et déplie-le soigneusement.
  
• Applique le masque uniformément sur ton visage en assurant un bon contact avec la peau.
  
• Laisse poser 10–15 minutes.
  
• Retire le masque et tapote doucement l’essence crème restante sur ta peau jusqu’à absorption complète.

Ingrédients :

Water, Tea Tree Leaf Water, Methylpropanediol, 1,2-Hexanediol, Butylene Glycol, Glycerin, Niacinamide, Octyldodeceth-16, Triethylhexanoin, Caprylic/Capric Triglyceride, Pentylene Glycol, Carbomer, Hydroxyethylcellulose, Tromethamine, Allantoin, Trehalose, Caprylyl Glycol, Ethylhexylglycerin, Dipotassium Glycyrrhizate, Disodium EDTA, Panthenol, Soybean Seed Extract, Sodium Hyaluronate, Hydrolyzed Hyaluronic Acid, Pantothenic Acid, Centella Asiatica Leaf Water, Cyclodextrin, Centella Asiatica Extract, Hydrogenated Lecithin, Madecassoside, Ceramide NP, Cholesterol, Camellia Sinensis Leaf Water, Resveratrol, Beta-Glucan, Sodium DNA, Nelumbo Nucifera Leaf Extract